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  • OYS-1200C-ⅢPECVD系統(tǒng)爐
    PECVD系統(tǒng)爐即等離子增強化學氣相沉積爐，是一種基于等離子體化學氣相沉積技術的薄膜沉積設備，是一款三溫區(qū)開啟式管式爐，其最高溫度可以達到1200℃（1200℃1H）。
    更新時間：2024-10-31型號：OYS-1200C-Ⅲ廠商性質：生產廠家
    現(xiàn)在聯(lián)系
  • GYS-1500C-IICVD系統(tǒng)（高真空）
    CVD系統(tǒng)（高真空）GYS-3Z+OYS-300F+(真空連接配件)1.包含一款通過CE認證的高溫管式爐，2.包含一款GYS-3Z低成本的流量計控制系統(tǒng) 3.包含一款OYS-300F風冷分子泵機組參數(shù)表。
    更新時間：2024-10-31型號：GYS-1500C-II廠商性質：生產廠家
    現(xiàn)在聯(lián)系
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