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  • OYS-1200C-ⅢPECVD系統(tǒng)爐
    PECVD系統(tǒng)爐即等離子增強化學氣相沉積爐,是一種基于等離子體化學氣相沉積技術的薄膜沉積設備,是一款三溫區(qū)開啟式管式爐,其最高溫度可以達到1200℃(1200℃1H)。
    更新時間:2024-10-31型號:OYS-1200C-Ⅲ廠商性質:生產廠家
    現(xiàn)在聯(lián)系
  • GYS-1500C-IICVD系統(tǒng)(高真空)
    CVD系統(tǒng)(高真空)GYS-3Z+OYS-300F+(真空連接配件)1.包含一款通過CE認證的高溫管式爐,2.包含一款GYS-3Z低成本的流量計控制系統(tǒng) 3.包含一款OYS-300F風冷分子泵機組參數(shù)表。
    更新時間:2024-10-31型號:GYS-1500C-II廠商性質:生產廠家
    現(xiàn)在聯(lián)系
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